设备名称

高分辨X射线三维数字成像分析系统

厂家

天津三英精密仪器股份有限公司

型号

nanoVoexl 3000

购置时间

2020.06

简介：

高分辨X射线三维数字成像分析系统（CT）是利用X射线断层扫描三维图像采集技术，可多尺度、不破坏样品、无损3D扫描样品，并将扫描数据体数字化，可进行内部结构三维可视化，直观观测内部结构，可用于复合材料无损检测、多孔介质材料分析和储层岩心微观结构分析等方面。

主要技术指标：

1.系统最高空间分辨率≤1μm（空间分辨率测试卡结果证明）；

2.设备支持原位加载系统扩展，样品台最大承重可达15Kg；

3.支持多种类型扫描成像模式：二维投影DR成像，圆轨迹锥束CT，超视野锥束CT，螺旋锥束CT，偏置锥束CT；

4.可扫描最大样品≥200mm。

设备名称

核磁共振分析仪

厂家

苏州纽迈分析仪器股份有限公司

型号

MicroMR12-025V

购置时间

2022.09

简介：

核磁共振的基本原理是用无线电射频脉冲激发物体内的氢原子核，引起氢原子核共振，并吸收能量。在停止射频脉冲后，氢原子核按特定频率发出射电信号，并将吸收的能量释放出来，被接受器收录，经计算机处理后，可反演分析物质的微观结构。核磁共振是一种物理现象，作为一种分析手段广泛应用于物理. 化学生物等领域。

主要技术指标：

1、磁体类型：永磁体；

2、磁场强度：0.28±0.03T；

3、检测原子核：1H原子核；

4、磁体均匀度：≤30ppm（Ø30mm*H60mm圆柱体）；

5、1英寸探头，内径32mm，样品最大尺寸：Ø25.4mm*H60mm。

设备名称

X射线衍射仪

厂家

丹东通达科技有限公司

型号

TD-3500

购置时间

2016.11

简介：

X射线衍射仪(XRD)主要应用于粉末、块状或薄膜样品的物相定性、定量分析、晶体结构分析、材料结构分析、晶体的取向性分析、宏观应力或微观应力的测定、晶粒大小测定、结晶度测定等。

主要技术指标：

1、功率：2.4kW；

2、焦点：1×10mm；

3、靶材：CU靶一只；

4、2θ角重复精度≤0.0001°；

5、滤光片：Ni。

设备名称

微结构表征分析仪

厂家

国仪量子（合肥）技术有限公司

型号

SEM3100

购置时间

2022.10

简介：

利用二次电子或背散射电子信号对金属材料、半导体材料及高分子材料、岩心等微观结构进行表面形貌及断口分析，并可以配合能谱仪对样品元素进行半定量分析。

主要技术指标：

预对中发叉式钨灯丝电子枪

1、二次电子图像： 3.0 nm @ 30 kV

2、背散射电子图像：4.0 nm @ 30 kV

3、加速电压：1 kV～30 kV

4、底片倍率：1-300000x，1-16x为光学放大

5、屏幕倍率：1-1000000x

6、探测器：二次电子探测器；背散射探测器

设备名称

高性能计算集群

厂家

DELL

型号

无

购置时间

2020.05

简介：

支持集成多类型应用软件，包括应用物理模拟仿真计算、机械行业设计软件、制造业 CAD/CAE 设计软件、石油勘探分析软件、科学计算软件和大数据分析软件等。

主要技术指标：

计算节点：22个

线程：22*40

设备名称

高温真空管式炉

厂家

安徽贝意克设备技术有限公司

型号

无

购置时间

2015.06

简介：

主要用于CVD法制备石墨烯；也可广泛用于各种反应温度在1100℃左右的快速升温、快速降温、真空烧结、气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多个研究领域。

主要技术指标：

最高温度：1200℃(< 1 hr)

持续工作温度：1100℃

加热区长度：200+200+200mm

控温精度：+/- 1℃

设备名称

脉冲激光沉积系统（PLD）

厂家

中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司

型号

PLD450

购置时间

2022.12

简介：

脉冲激光沉积技术利用是高能脉冲激光辐照固体靶，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到薄膜的一种手段。其薄膜沉积过程被认为是“化学计量”的，非常适合于沉积一些难熔材料及多组分材料(如化合物半导体、电子陶瓷、超导材料)的精密薄材料。

主要技术指标：

最高工作温度：800℃

极限真空度：≤6.67x10^-5Pa；

沉积源：φ2英寸靶材，4个

样品尺寸：φ2英寸

设备名称

低温物性测量系统

厂家

蓝海科仪

型号

无

购置时间

2020.12

简介：

脉冲激光沉积技术利用是高能脉冲激光辐照固体靶，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到薄膜的一种手段。其薄膜沉积过程被认为是“化学计量”的，非常适合于沉积一些难熔材料及多组分材料(如化合物半导体、电子陶瓷、超导材料)的精密薄材料。

主要技术指标：

温度：4.2~350K，控温精度0.1K

石英光学窗口：2个

磁场：0~0.6T，360°旋转

电学：Keithley2400源表